次世代半導体製造装置の生産を準備＝ＡＳＭＬ
半導体製造装置で欧州最大手のＡＳＭＬホールディング（オランダ）は、半導体製造に使用する極端紫外線（ＥＵＶ）露光装置「高ＮＡ ＥＵＶ」を本社で展示し、装置の生産準備をしていることを明らかにした。「高ＮＡ ＥＵＶ」の価格は３億5,000万ドル。ロイター通信が２月９日に伝えた。
「高ＮＡ ＥＵＶ」はチップ
半導体
-
一汽トヨタの「bZ5」、ロームのインバーター採用
2025/06/25（水）
-
コンチネンタル自動車部門、半導体ユニット設立
欧州 半導体2025/06/25（水）
-
半導体ウルフスピードが破産＝負債の７割免責
北米 半導体2025/06/24（火）
-
ノリタケ、韓国ＬＧと半導体用接合材を開発
アジア・オセアニア 半導体2025/06/23（月）
-
ＥＤＡのケイデンス、サムスンとの提携拡大
北米 半導体2025/06/19（木）
